Cette journée scientifique et technique est dédiée à l’adhésion directe (moléculaire, covalente, métallique), l’adhérence et son renforcement par préparation des surfaces et traitement des assemblages. La silice reste le matériau le mieux compris dont le collage moléculaire est le plus mature.

La journée abordera également le collage adhésif incluant un agent intermédiaire fluide.

Les mécanismes et techniques d’obtention des interfaces et leurs performances -mécanique- -thermique-électrique- optique- seront présentées.

Film Infra-rouge de l’auto-propagation du front de collage direct entre 2 wafers de Silicium de 300mm de diamètre recouverts de SiO2 thermique (crédit CEA Leti, F. Fournel)

Elle est la suite suite de l'édition 2019 qui a permis la création d'un groupe de travail "adhésion moléculaire" soutenu par le ROP et organisateur de cette édition 2023. Elle présentera l’état de l’art sur ce procédé de collage et montrera des travaux menés ces dernières années utilisant cette technologie.

Cette journée thématique est co‐organisée par le Laboratoire de Mécanique et d’Acoustique (LMA), le Réseau Optique et Photonique (ROP), le réseau Cristaux Micro-nano-structures et Dispositifs pour l’Optique (CMDO+) et soutenu par la Mission pour les Initiatives Transverses et Interdisciplinaires du CNRS et la Comunauté d'ExperT Optique et OptoElectronique (COMET‐OEE) du CNES.